Aplicarea evaporării fasciculului de electroni

Aplicarea evaporării fasciculului de electroni - prepararea filmului TiO 2 prin evaporarea fasciculului de electroni

Principiul de acoperire evaporarea fasciculului de electroni pentru a pregăti filmul TiO 2 , utilizând sistemul de acoperire optică automată INTEGRITY-39 cu evaporarea fasciculului de electroni asistat cu fascicul ionic, așa cum se arată în figura de mai jos.

0010010 nbsp; 1. Intrare de apă de răcire; {{2}}. Ieșire de apă de răcire; 3. Creuzet; 4. Bobină de fascicul; 5. Transmițător cu fascicul de electroni; 6. Lampa de încălzire; 7. Cadru de substrat; 8. Motor; 9. Film de monitorizare; 1 0. Tensiunea de lucru a pistolului de electroni eșantion pregătit prin placare cu sursa de ioni este 1 0 kV, curentul este {{2}} 00 A, iar temperatura de depunere a camerei de vid este 1 45 ~ 1 55 ℃. Granulat negru Ti 2 O 3 cu o puritate de 9 9. 99% a fost selectat pentru materialul cu membrană. Cc - 1 05 fascicul de ioni de catod rece a fost utilizat pentru depunerea auxiliară. În timpul depunerii, camera de vid a fost umplută cu O 2 cu o puritate de 9 9. 99% ca gaz de reacție. Înainte de acoperire, substratul este curățat cu soluție de sticlă, clătit cu deionizat 0010010 nbsp; apă și uscat prin suflare cu azot. Apoi, substratul este curățat cu 99. 9% acetonă și undă cu ultrasunete etanol anhidru timp de 15 min fiecare. După uscare cu hârtie specială de ștergere, aceasta este încărcată în camera de vid. Când este pompat vidul la {{5}}. 5 × 10-4pa prin pompa mecanică și pompa de difuzie, procesul de placare automată este setat. Când substratul este încălzit până la temperatura de depunere de 1 5 0 ℃, sursa de ioni începe să bombardeze substratul, iar energia este controlată la {{5}} 0 ~ 9 0 eV pentru 10 min.

apoi, pistolul cu electroni este pornit automat pentru a încălzi și evapora materialul filmului, iar viteza de depunere este 0. 38 ~ 0. 42 nm / s. Când filmul este depus la grosimea proiectului de 440 nm, programul închide automat pistolul de electroni, iar placarea este finalizată. După acoperire, camera de vid a fost răcită în mod natural la temperatura camerei și proba a fost extrasă. Testul spectral al eșantionului TiO 2 a fost realizat cu spectrofotometru Lambda 900 (interval de test 175 ~ 3 300 nm). Grosimea reală, coeficientul de extincție și indicele de refracție al filmului TiO 2 au fost calculate prin metoda plicului software Macleod. Efectele diferitelor grade de vid asupra filmului care formează calitateay, indexul de refracție și coeficientul de absorbție al TiO 2 au fost studiate cu fluxuri diferite de oxigen de înaltă puritate în camera de vid. Când TiO 2 filmul subțire este depus prin evaporare asistată de o sursă de ioni la un grad de vid ridicat, modificarea gradului de vid cu trecerea oxigenului este listată în tabelul următor. Deoarece moleculele de oxigen din camera de vid sunt ionizate în ioni de oxigen și reacționează cu molecule de vapori Ti {{2}} O O 3 , oxigenul a pierdut în descompunerea Ti {{{{4} }}} O 3 este completat, iar TiO-ul rezultat 2 din film este relativ pur. Cu toate acestea, dacă furnizarea de oxigen este insuficientă sau reacția dintre Ti {{2}} O 3 și O 2 este insuficientă, filmul cu oxid de titan cu absorbție mare tino {{{{ 4}}}} n - 1 (n=1, {{2}}, ..., 1 0). Odată cu creșterea fluxului de oxigen, probabilitatea de coliziune dintre TiO 2 molecule de vapori și molecule de oxigen în procesul de evaporare crește și se pierde energie, ceea ce reduce energia cinetică a TiO 2 depusă pe substrat. suprafață și afectează aderența și densificarea filmului depus. Pentru peliculele subțiri optice, asistența sursei de ioni poate crește energia cinetică a moleculelor de pe suprafața substratului, nu numai că are un impact semnificativ asupra indicelui de refracție al filmului, dar poate îmbunătăți și densitatea filmului și rezistența la umiditate și film aderența pe substrat este, de asemenea, îmbunătățită semnificativ.

IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com