Ce rol are Chillerul în procesul de acoperire cu vid?

Ce rol joacă răcitorul de lichid în procesul de acoperire cu vid?

Principiul de lucru al acoperirii prin vid este că corpul de film se evaporă și cade pe suprafața piesei de prelucrat pentru a se cristaliza la temperaturi ridicate . Deoarece aerul de evaporare a moleculelor de membrană va produce rezistența cauzată de coliziunea cristalelor deveni mată brută, deci trebuie să fie într-un vid înalt pentru a face cristalul fin și luminos, în cazul în care vidul nu este ridicat de cristal va pierde luciu și legarea slabă forta. Vopsirea timpurie a vidului depinde de evaporarea împrăștierii naturale, combinată cu o eficiență scăzută de luciu scăzut. Acum, pe lângă țintă de pulverizare cu magnetron de medie frecvență, moleculele de evaporare ale corpului peliculei sunt accelerate pentru a bombasteriza materialul țintă sub acțiunea câmpului electric cu ținta magnetron și un număr mare de atomi țintă sunt sputați și atomii țintă neutri (sau moleculele) sunt depuși pe substrat pentru a forma o peliculă care rezolvă problema varietății corpului de film care nu poate fi procesată prin evaporare naturală în trecut, cum ar fi placarea cu titan și zirconiu și așa mai departe.

Dacă echipamentul trebuie să adauge apă de răcire datorită curentului său de înaltă frecvență. Când curentul curge în conductor, există un efect de piele, iar încărcarea se va acumula în suprafața conductivității, astfel încât conductanța să fie încălzită. Prin urmare, tubul de gaură centrală este utilizat ca conductor și se adaugă apă pentru ao răci.

De ce răcirea cu apă? Obiectivele de spargere a magnetronului produc temperaturi ridicate în timpul lansării, care deformează arma, deci are o jachetă pentru a răci pistolul. În același timp, există un alt motiv important pentru care pulverizarea magnetronului poate fi considerată ca fiind una dintre realizările remarcabile ale z * în tehnologia de acoperire. Are o viteză mare de pulverizare, o creștere scăzută a temperaturii substratului și o bună aderență bazată pe peliculă.

Se discută principiul general al pulverizării magnetronului și neuniformitatea transversală și simetria câmpului magnetic. Sputteringul Magnetron poate fi considerat unul dintre realizările remarcabile ale z * în tehnologia de acoperire. Se caracterizează printr-o viteză mare de pulverizare, o creștere a temperaturii scăzute a substratului, o bună aderență bazată pe peliculă și o performanță stabilă a dispozitivului.

Răcitorul de lichid este un fel de echipament de răcire cu apă, poate asigura o temperatură constantă, un curent constant, o presiune constantă a apei de răcire. Principiul de funcționare este de a injecta o anumită cantitate de apă în rezervorul de apă al mașinii, răciți apa prin sistemul de răcire și apoi trimiteți apa de răcire la temperatură joasă în instalația de răcire de către pompa de apă, temperatura crește după ce apa de răcire scoate căldura și apoi revine înapoi în rezervorul de apă pentru a obține efectul de răcire. Temperatura apei de răcire poate fi ajustată automat în funcție de cerințe, utilizarea pe termen lung poate economisi apă.

Răcitorul de lichid poate controla temperatura mașinii de acoperire cu vid pentru a asigura o calitate ridicată a pieselor de placare. Dacă nu este potrivit pentru răcitorul de lichid, mașina de acoperire cu vid nu poate atinge scopul controlului temperaturii de înaltă precizie și de înaltă eficiență, deoarece disiparea caldă a apei și turnului de apă este inevitabil afectată de temperatura naturală și acest mod de control este foarte instabilă.

Aparatul de apă rece are sistem de refrigerare complet independent, nu este influențat de temperatură și mediu, temperatura apei în 5 ℃ ~ 30 ℃ reglajul de reglaj de domeniu, realizând astfel scopul de control al temperaturii și de mare precizie, de înaltă eficiență, mașină de apă rece este echipat cu independent sistem de reciclare a apei.

IKS PVD , mașină de acoperire prin pulverizare megnetron MF ( medie ) , contactați : iks.pvd@foxmail.com