HiPIMS Technology Overview
Jun 21, 2018| Tehnologia de pulverizare Magnetron este utilizată pe scară largă în domeniul preparării filmelor subțiri. Aplicațiile de acoperire decorativă și acoperirea cu scule sunt relativ frecvente.
Totuși, tehnologia de procesare prin pulverizare magnetron are multe limitări. De exemplu, atunci când curentul de pulverizare este mare, ceea ce înseamnă că densitatea de putere a unei ținte de pulverizare a magnetronului este limitată de încărcătura de căldură țintă, bombardarea țintă cu ioni excesivi pozitivi poate provoca supraîncălzirea și arderea țintei de pulverizare. În afară de aceasta, are și dezavantajele unei energii limitate de pulverizare și unei rate scăzute de ionizare a metalului.
În ultimii ani, o tehnologie de pulverizare cu magnetron pulverizat (HiPIMS) a fost dezvoltată în țară și în străinătate, iar această limitare a fost mult mai slăbită. Puterea de vârf a pulverizării magnetronice de mare putere este de aproximativ 100 de ori mai mare decât cea a pulverizării magnetronice obișnuite. Rata de ionizare a materialului pulverizat este extrem de ridicată, iar acest fascicul puternic ionizat nu conține particule mari. Astfel, filmul de înaltă calitate poate fi obținut cu ușurință de tehnologia HiPIMS.
Deoarece timpul de acțiune al impulsului este de câteva sute de microsecunde, puterea medie a HiPIMS este comparabilă cu cea a pulverizării magnetronice obișnuite, astfel încât cerința de răcire a țintei magnetron nu este mărită. Deși puterea instantanee a pulverizării magnetronice de înaltă putere este mare, puterea sa medie nu este mare, deci poate fi utilizată pe scară largă.