PVD sticlă de acoperire

Depunerea fizică a vaporilor de acoperiri pe sticlă, material țintă utilizat pentru pulverizare. Aplicația este în principal sticlă de acoperire Low-E (sticlă acoperită cu emisie scăzută ) . Principiul de pulverizare magnetron este utilizat pentru a pulveriza filme subțiri multiple pe sticlă, pentru a obține roluri decorative, de economisire a energiei, de iluminat. Sticla low-E , cunoscută și sub denumirea de sticlă de economisire a energiei.În prezent, deoarece cererea de conservare a energiei, reducerea emisiilor și îmbunătățirea calității vieții oamenilor crește, sticla tradițională de construcție este înlocuită treptat cu sticlă de economisire a energiei. Conform cererii de pe piață, în prezent, aproape toate întreprinderile mari de prelucrare a sticlei mari cresc rapid linia de producție a sticlei acoperite. Corespunzător, cererea pentru materialul țintă de acoperire crește rapid, principalele soiuri de materiale țintă pentru acoperirea cu sticlă sunt țintă Ag, ținta Cr, ținta Ti, ținta NiCr, ținta ZnSn, țintă SiAl, ținta TixOy etc.

O altă aplicație a sticlei acoperite este aceea de a realiza oglinda retrovizoare automată, în principal materialul țintă fiind ținta Cr, țintă Al, ținta TixOy etc. Împreună cu oglinda retrovizoare de automobile de clasă cererea de îmbunătățire neîntreruptă, Multe întreprinderi de la procesul de placare de aluminiu inițială la vid pulverizare crom procesul de placare.

(Relevant recomandăm: mașină de acoperire cu vacuum IKS PVD și material țintă)

sputtering

• Sputteringul este îndepărtarea materialului dintr-o țintă solidă prin bombardarea cu ioni energetici.

• Ionii provin dintr-o plasă închisă magnetic, creată deasupra suprafeței țintă.

• Depunerea prin pulverizare este procesul de acoperire a unui substrat cu materialul îndepărtat de la o țintă prin pulverizare.