Caracteristici ale procesării fasciculului ionic:

Caracteristici ale procesării fasciculului ionic:

(1) Deoarece fasciculul de ioni poate fi scanat prin focalizare prin sisteme optice electronice, materialele de bombardare ale fasciculului de ioni elimină atomii strat cu strat, densitatea fasciculului de ioni și energia ionică pot fi controlate cu precizie, astfel încât gravura ionică poate atinge precizia de procesare a nanometrului (0,001 nm). Acoperirea cu ioni poate fi controlată la nivel sub-micron, iar adâncimea și concentrația de implantare de ioni pot fi controlate foarte precis. Prin urmare, fasciculul de ioni este cea mai precisă și cea mai precisă metodă de procesare dintre toate metodele speciale de prelucrare și reprezintă baza tehnologiei moderne de procesare a nanometrelor.

(2) Deoarece prelucrarea fasciculului de ioni se realizează într-un vid ridicat, are o poluare mai mică și este adecvată în special pentru prelucrarea metalelor ușor oxidabile, a materialelor din aliaj și a materialelor semiconductoare de înaltă puritate.

(3) Prelucrarea fasciculului de ioni se realizează prin bombardarea atomilor de pe suprafața unui material cu ioni. Este un efect micro, presiunea macro este foarte mică, deci stresul de procesare, deformarea termică și alte mici, de înaltă calitate de prelucrare, potrivite pentru tot felul de materiale și de prelucrare a pieselor de rigiditate scăzută.

(4) Intensitatea, poziția și focalizarea fasciculului de electroni pot fi controlate direct cu câmp magnetic sau electron, astfel încât întregul proces este convenabil să fie automatizat mai întâi. Mai ales în expunerea fasciculului de electroni, de la locația procesării până la scanarea graficelor de prelucrare. Poate fi automatizat. În timpul forajului și tăierii cu fascicul de electroni, găurile speciale în formă pot fi prelucrate prin control electric pentru a realiza o tăiere curbă.

IKS PVD Mașină de acoperire optică cu fascicul de electroni ， IKS-OPT2700, Mai multe detalii, vă rugăm să contactați iks.pvd@foxmail.com