Depunerea chimică în vapori (CVD)
Oct 16, 2024| Depunerea chimică în vapori (CVD)
Mai mult de doi vapori de reactanți gazoși sau lichizi sunt introduși în camera de reacție în condiții de vid de temperatură înaltă, unde reacțiile chimice au loc pe suprafața plachetei pentru a forma un nou material și a-l depune.
În prezent, piața CVD ocupă cea mai mare proporție și încă se repetă.
În funcție de diferitele condiții de reacție (presiune, precursor), acesta este împărțit în CVD presiune atmosferică (APCVD), CVD la presiune joasă (LPCVD), CVD îmbunătățit cu plasmă (PECVD), CVD cu plasmă de înaltă densitate (HDPCVD) și depunere de strat atomic (ALD). ).
Compania IKS PVD, mașină de acoperire decorativă, mașină de acoperire unelte, mașină de acoperire DLC, mașină de acoperire optică, linie de acoperire în vid PVD, proiectul la cheie este disponibil. Contactați-ne acum, e-mail: iks.pvd@foxmail.com