Sursă de putere magnetron pulsată de mare putere

Avantajele tehnologiei de pulverizare cu magnetron pulverizat de înaltă putere (HIPIMS) ◆ Puterea impulsului convențional de magnetron DC este limitată de stresul termic al țintei. ◆ Cea mai mare parte a energiei de coliziune ionică se poate transforma direct în energia termică a țintă. ◆ Sursa de energie magnetronică pulsată ...

Trimite anchetă
Descarca

Introducerea Produsului

Avantajele tehnologiei de pulverizare cu magnetron pulverizat de mare putere ( HIPIMS )

◆ Puterea impulsului DC magnetron convențional este limitată de stresul termic al țintei.

◆ Cea mai mare parte a energiei coliziunii ionice se poate transforma direct în energia termică a țintei.

◆ Sursa de putere magnetronă pulsată asigură o tensiune ridicată a impulsului și un ciclu de funcționare redus.

◆ Sursa de putere magnetronă pulsată poate înlocui direct sursa de alimentare cu magnetron DC.

Comparație între evacuarea prin pulverizare cu magnetron de mare putere și descărcarea prin pulverizare DC Magnetron

Caracteristici ale magnetronului pulsat de mare putere Sputtering Discharge	Caracteristici ale descărcării prin pulverizare Dc Magnetron
Tensiunea de descărcare a catodului este de 500 ~ 2000 V, densitatea curentului este de până la 3 ~ 4A / cm2.	Intensitatea câmpului magnetic este de 0,01 ~ 0,05 T în timp ce tensiunea de lucru este de 300 ~ 700 V sub magnetronul tipic DC pulverizare presiune de lucru (1 ~ 10 mTorr).
Densitatea electronică în apropierea suprafeței substratului: 10 ¹⁸ ~ 10 ¹⁹ m ^- ³	Densitatea electronică în apropierea suprafeței substratului: 10 ¹⁵ ~ 10 ¹⁶ m-3
Densitatea de putere: 1 ~ 3kW / cm2	Rata de ionizare scăzută (~ 1%) a țintă în timpul pulverizării.
Frecventa: 100 ~ 1000Hz	Gazele inerte sunt în majoritate
Ciclul de funcționare: 1% ~ 10%	Echipament suplimentar de ionizare auxiliară (RF de cuptor cu microunde).

Caracteristici ale sursei de alimentare cu pulverizare cu magnetron de mare putere

◆ Descărcarea electrodului pozitiv și negativ este controlată de comutatorul de mare viteză pentru a evita intrarea în zona de descărcare a arcului de la zona de descărcare anormală a strălucirii pulverizatorului tradițional de magnetron. Densitatea curentului este de până la 1018 - 1019 / m3, ceea ce este mult mai mare decât pulverizarea tradițională a magnetronului. Și cu o rată de ionizare extrem de ridicată de 80% -99%, poate depozita cu ușurință o varietate de filme avansate cu aderență puternică.

◆ Puterea de pulverizare cu magnetron pulsatoriu de mare putere oferă caracteristici excelente ale filmului în ceea ce privește consistența filmului, duritatea, rezistența la uzură și aderența.

◆ Cu un impuls de mare putere și un ciclu de funcționare redus, sursa de alimentare cu pulverizator cu magnetron de înaltă putere poate înlocui direct sursa de pulverizare magnetron DC fără a schimba echipamentul original de acoperire prin pulverizare magnetron.

◆ Tehnologia de suprimare a arcului PHP asigură că utilizatorii pot controla calitatea filmului mai convenabil în procesul de tratare a suprafeței. Cu caracteristicile stabilizării tensiunii și a loviturii de forță ideale, alimentarea cu energie poate inhiba efectiv arcurile de pe suprafața piesei de prelucrat și poate îmbunătăți semnificativ randamentul de producție, finețea suprafeței și aderența peliculei la piesele de placare.

◆ Sursa de alimentare cu magnetron puls de putere mare adoptă o tehnologie avansată de surse de alimentare cu invertor de înaltă frecvență și un modul de putere IGBT de mare putere.

◆ Utilizând microcontrolerul cu ecran tactil, sursa de alimentare este foarte integrată și puternică, cu o operare ușoară. Afișarea curentului și a tensiunii este foarte clară și intuitivă. De asemenea, suporta numararea de mare viteza multi-canal si functia pulsului de mare viteza.

◆ Sursa de alimentare are funcțiile de protecție pentru supra-curent, supra-tensiune și temperatură peste.

◆ Sursa de alimentare poate comunica cu computerul gazdă prin porturile digitale precum RS232, RS485, WIFI și așa mai departe, care își extinde funcția de control.

Specificatiile produsului

Modelul produsului	EP50A80H
Putere și frecvență de intrare (V / Hz) Trei faze și patru fire	AC380 + N
	60Hz
Domeniul curentului de ieșire (A)	0 ~ 500
Precizie pentru Voltaj constant și curent constant	≤1%
Tensiunea nominală de ieșire (DCV)	800
Putere medie maximă (KW)	40
Puterea maximă (KW)	400
Ciclul de funcționare (%)	<>
Greutate (KG)	60
Dimensiuni externe (MM)	575 (D) x 480 (W) x 250 (H)
Gradul de izolație	B
Productivitate (%)	90
Clasa de protecție a carcasei	IP21
Mod de operare	Tensiunea constantă, curentul constant și modurile de alimentare constante sunt opționale.
Modul de răcire	Racirea apei
Interfață externă	Toate produsele Seria adoptă microcontrolerul cu ecran tactil

Comparație între Sursa de alimentare cu pulverizare magnetron Impuls Magnetron EP50A80H și alte produse

	Sputtering Impuls Magnetron de înaltă putere
Marca	Huttinger	Hauzer	IKS
Model	Truplasma Highpulse 4000	HIPIMS +	EP50A80H
Putere medie maximă	20KW	20KW	40kW
Puterea maximă	1MW ~ 8 MW	360KW	400kW
Voltaj	1KV, 2KV	800	800
Actual	1KA, 2KA, 4KA	600	500
Detectarea arcurilor	<>	<>	<>
Ambalare (B * H * T)	483x635x676	nul	480x268x700

Avantajele puterii de pulverizare a pulverizatorului de magnetron EP50A80H

◆ Fiabilitate ridicată

EP50A80H oferă caracteristici excelente ale filmului în ceea ce privește consistența filmului, duritatea, rezistența la uzură și aderența.

◆ Tehnologie excelentă de suprimare a arcului

EP50A80H adoptă tehnologia de suprimare a arcului PHP, astfel încât utilizatorii pot controla în mod convenabil calitatea filmului în procesul de tratare a suprafeței pentru a obține o structură de film mai bună.

◆ O bună compatibilitate

EP50A80H poate înlocui direct sursa de alimentare a magnetronului prin pulverizare. În loc să înlocuiască materialele catodice și câmpurile magnetice, utilizatorii trebuie să schimbe sistemul de răcire.

◆ Raport ridicat de putere-volum

Raportul volum mare de putere face integrarea instalării echipamentului mai ușoară pentru utilizatori.

cerere

Sursa de putere de mare putere MF magnetron este utilizată pe scară largă în domeniile plasmei, fizică, chimică, medicală și de cercetare științifică, poate satisface o gamă largă de cerințe de proces, în special în echipamentele de acoperire cu vid.